1)硬質(zhì)合金刀具長(zhǎng)度補(bǔ)償與半徑補(bǔ)償功能的關(guān)系
如果在零件的數(shù)控加工程序中,既有刀具長(zhǎng)度補(bǔ)償又有刀具半徑補(bǔ)償(在控制器中補(bǔ)償)指令時(shí),必須把含有長(zhǎng)度補(bǔ)償?shù)某绦蚨螌懺诤邪霃窖a(bǔ)償?shù)某绦蚨吻懊?,否則半徑補(bǔ)償無(wú)效
例如:在下面的程序段中:N50 GOOG41X20Y20D02 N60 GOOG43Z10數(shù)控系統(tǒng)不執(zhí)行刀具半徑補(bǔ)償若改為:N50 GOOG43Z10 N60 GOOG41X20Y20D02則數(shù)控系統(tǒng)既執(zhí)行刀具半徑系統(tǒng)又執(zhí)行刀具長(zhǎng)度補(bǔ)償指令。
(2)刀具長(zhǎng)度補(bǔ)償與其它指令的關(guān)系
a.G43,G44指令只能用于直線運(yùn)動(dòng)之中,在非直線運(yùn)動(dòng)語(yǔ)句中使用時(shí)會(huì)產(chǎn)生報(bào)警;b.G43,G44為同組模態(tài)指令,它們會(huì)自動(dòng)取消上次刀具長(zhǎng)度補(bǔ)償而不需要用專門的G49指令,為了安全起見,在一把刀加工結(jié)束或程序段結(jié)束時(shí),都應(yīng)取消刀具長(zhǎng)度補(bǔ)償;c.刀具長(zhǎng)度補(bǔ)償必須伴隨獨(dú)立的插補(bǔ)運(yùn)動(dòng)(GOO,GO1,G81,G83等)才能有效。
機(jī)械刀具在拉削和鉸削加工中的應(yīng)用
在拉削加工中,一般采用復(fù)合式漸開線跳齒內(nèi)孔超硬材料拉刀加工工件孔,其優(yōu)點(diǎn)主要有兩點(diǎn):其一是花鍵刃開側(cè)隙的刀齒結(jié)構(gòu)和合理的跳齒排布方式, 保證了拉刀的制造質(zhì)量,而且其制造工藝不復(fù)雜,成本與普通的復(fù)合式漸開線拉刀相比也沒(méi)有太多差別。其二是這種加工方式保證了工件內(nèi)孔各形面間的同軸度,在后續(xù)加工工序中,可以統(tǒng)一選用小徑圓面為定位基準(zhǔn), 從而使得后序檢驗(yàn)心軸和定位心軸的制作簡(jiǎn)化了許多,同時(shí)也保證了各加工表面的位置精度。
在硬鑄件小孔或淬硬鋼的鉸削加工中,PCBN 電鍍鉸刀應(yīng)用十分廣泛。這類鉸刀以9CrSi 或42HRC 的45# 鋼作為基體,具有切削和前后導(dǎo)向部分。其基體設(shè)計(jì)要十分合理,且制造精度要求很高,切削部分要比前導(dǎo)向部分大0.04mm,工件孔深要小于切削區(qū)長(zhǎng)度,切削區(qū)長(zhǎng)度要比后導(dǎo)向長(zhǎng)度略小。例如,某工廠加工直徑大約為12mm 的淬火鋼工件, 其硬度為45HRC,底部尺寸大約為12mm,加工要求孔的圓柱度為0.005mm,表面粗糙度為0.2μm。這個(gè)時(shí)候一般選用的是一組5 把電鍍CBN 鉸刀來(lái)進(jìn)行加工。有些發(fā)動(dòng)機(jī)制造廠用PCBN 或PCD 電鍍鉸刀珩鉸汽缸體的主軸承孔來(lái)代替珩磨,這種做法使工作效率提高了數(shù)倍,且加工成品質(zhì)量穩(wěn)定。
1.化學(xué)退涂
在對(duì)硬質(zhì)合金刀具(Ti,Cr)N多組元硬質(zhì)膜系退涂工藝進(jìn)行研究后,得到所用的退涂液濃度(wt%)為:葡萄糖酸鈉1.5%-3.5%,NaOH6.5%-10%,含30% H2O2的(wt%)20%-25%,十二烷基磺酸鈉0.2%-0.4%,三磷酸鈉0.2%-0.4%,剩余為蒸餾水,NaOH(wt%):含30% H2O2的(wt%)為1∶3.5-1∶2,且二者之和必須為29%-33%(wt%),同時(shí)要求十二烷基磺酸鈉(wt%):三磷酸鈉(wt%)為1∶1-1∶0.7,且二者之和必須為0.4%-0.8%(wt%)。研究發(fā)現(xiàn)(Ti, Cr)N三組元硬質(zhì)膜的退除是沿著缺陷處以脫落方式退除,并且后退除的膜層是沿著先退除的膜層邊緣繼續(xù)脫落,直到膜層退除干凈。對(duì)于(Ti,Al,Zr,Cr)N多組元硬質(zhì)膜、(Ti,Al,Cr)N四組元硬質(zhì)膜。
在關(guān)于電化學(xué)氮化鉻涂層剝離的研究文獻(xiàn)中,確定了一種三電極電解池中剝離單一涂層或復(fù)合涂層在堿性溶液中的方法,采用SCE電極、鉑電極、工作電極三個(gè)電極,氮化物涂層在電流的作用下具有較強(qiáng)的表面活性,產(chǎn)生更多的可溶成分,電解過(guò)程簡(jiǎn)單易于控制,當(dāng)電流突然升高時(shí),涂層完全剝離基體表面。此法退涂的表面均勻無(wú)點(diǎn)蝕。退涂的工件為陽(yáng)極,室溫下在由磷酸、硫酸、丙三醇及去離子水混合組成的酸性電解液中進(jìn)行電解,直至類金剛石涂層退涂盡為止。該方法不僅能夠快速退除表面的類金剛石薄膜涂層,同時(shí)不對(duì)基體表面產(chǎn)生破壞性腐蝕,對(duì)工件尺寸及形狀改變微小,涂層退除之后能夠重新涂覆使用。
3.蝕刻退涂
主要利用離子束對(duì)硬質(zhì)涂層進(jìn)行照射蝕刻來(lái)進(jìn)行退涂。純機(jī)械的祛除硬質(zhì)涂層,不與基體和涂層發(fā)生化學(xué)反應(yīng),因此不必考慮化學(xué)腐蝕引起的表面脆化等問(wèn)題,但缺點(diǎn)是退涂速度緩慢、退涂效率低。
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